प्रकाश-परिरक्षण पॉलिएस्टर यार्न

प्रकाश-परिरक्षण पॉलिएस्टर यार्न के बारे में

प्रकाश-परिरक्षण पॉलिएस्टर यार्न के एकीकरण के माध्यम से कार्यात्मक वस्त्रों को फिर से परिभाषित करता है

नैनो-स्केल लाइट-ब्लॉकिंग कणों को ब्लेंड स्पिनिंग तकनीक के माध्यम से पॉलिएस्टर आणविक श्रृंखलाओं में।

इसकी मालिकाना "फोटोनिक परिरक्षण मैट्रिक्स" संरचना यार्न के भीतर कई प्रकाश प्रतिबिंब और अवशोषण को प्रेरित करती है,

द्वितीयक कोटिंग्स के बिना% 90% दृश्यमान प्रकाश क्षीणन प्राप्त करना।

होटल ब्लैकआउट पर्दे से लेकर ऑटोमोटिव सनशेड फैब्रिक्स तक,

यह आणविक-स्तरीय डिजाइन ऑर्केस्ट्रेट स्थानिक प्रकाश गतिकी,

तीव्र रोशनी के खिलाफ एक अदृश्य बाधा में हर स्ट्रैंड को बदलना।

टेक्सटाइल सांस लेने की क्षमता के साथ प्रकाश बहिष्करण को संतुलित करके, यह छायांकन अनुप्रयोगों में कार्यात्मक सौंदर्यशास्त्र के लिए एक नया मानक निर्धारित करता है।

लाइट-परिरक्षणिंग पॉलिएस्टर यार्न पॉलिएस्टर फिलामेंट और टाइटेनियम ऑक्साइड नैनोटेक्नोलॉजी के संलयन से निकलता है। पिघल-ध्वन्यात्मक के माध्यम से, 0.3μm टाइटेनियम ऑक्साइड कणों को स्थायी रूप से "फोटॉन-स्तरीय प्रकाश अवरोध" बनाने के लिए एम्बेड किया जाता है: यूवी रेंज में, टाइटेनियम ऑक्साइड फोटोकैटलिसिस के माध्यम से फोटॉन को विघटित करता है; दृश्यमान प्रकाश में, कण बिखरने वाले 400-1200NM स्पेक्ट्रम को ब्लॉक करते हैं जो आमतौर पर निगरानी के लिए उपयोग किए जाते हैं।

सिलेन युग्मन एजेंटों के साथ संशोधित, यार्न सूखी और गीली दोनों स्थितियों में 0.2–0.5μm कण कण को ​​बनाए रखता है, जो लगातार छायांकन प्रदर्शन सुनिश्चित करता है-चाहे एक डाउनपोर में या उच्च-तीव्रता वाले व्यायाम के दौरान-कार्यात्मक वस्त्रों के लिए गोपनीयता मानकों को फिर से परिभाषित करें।

पॉलिएस्टर यार्न और नैनोस्केल लाइट-परिरक्षण तकनीक के संलयन से जन्मे, यह अभिनव सामग्री पिघल-ठहरने के माध्यम से फाइबर मैट्रिक्स में फोटो-अवशोषक सिरेमिक नैनोकणों को एम्बेड करती है, जिससे "ऑल-वेदर लाइट प्रोटेक्शन नेटवर्क" बनता है। पारंपरिक लेपित कपड़ों की थोक और पारगम्यता सीमाओं पर काबू पाने के लिए, यार्न −300g/mic वजन के दौरान% 85% परिरक्षण दक्षता बनाए रखता है। चाहे इंजीनियरिंग सिनेमा-ग्रेड डार्करूम या ऊर्जा-कुशल आर्किटेक्चर शेडिंग सिस्टम, यह प्रकाश प्रबंधन को फिर से जोड़ता है-आणविक स्तर पर जटिल छायांकन चुनौतियों को हल करने के लिए तकनीकी परिशुद्धता और कपड़ा बहुमुखी प्रतिभा को एक साथ करना।

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