نخ پلی استر با محافظ سبک
در مورد نخ پلی استر با محافظ سبک
نخ پلی استر محافظ نور منسوجات عملکردی را از طریق ادغام یکنواخت تعریف می کند
ذرات مسدود کننده نور در مقیاس نانو به زنجیرهای مولکولی پلی استر از طریق فناوری ریسندگی مخلوط.
ساختار اختصاصی "ماتریس محافظ فوتونیک" آن باعث بازتاب های متعدد نور و جذب در نخ می شود ،
دستیابی به ضعف نور قابل مشاهده 90 ٪ بدون پوشش ثانویه.
از پرده های خاموشی هتل گرفته تا پارچه های Sunshade اتومبیل ،
این طراحی سطح مولکولی دینامیک نوری فضایی ،
تبدیل هر رشته به یک مانع نامرئی در برابر روشنایی شدید.
با تعادل محرومیت از نور با قابلیت تنفس نساجی ، استاندارد جدیدی را برای زیبایی شناسی عملکردی در برنامه های سایه زنی تعیین می کند.
نخ پلی استر محافظ نور از همجوشی رشته پلی استر و فناوری نانو اکسید تیتانیوم بیرون می آید. از طریق مخلوط ذوب ، ذرات اکسید تیتانیوم 0.3μm به طور دائم برای ایجاد "سد نور در سطح فوتون" تعبیه شده اند: در محدوده UV ، اکسید تیتانیوم از طریق فوتوکاتالیز فوتون ها را تجزیه می کند. در نور مرئی ، پراکندگی ذرات طیف 400-1200 نانومتری را که معمولاً برای نظارت استفاده می شود ، مسدود می کند.
با استفاده از عوامل جفت سیلان ، نخ فاصله ذرات 0.2-0.5μm را در هر دو شرایط خشک و مرطوب حفظ می کند ، و عملکرد سایه ای مداوم را تضمین می کند-چه در یک تمرین کم تحرک یا در حین تمرین با شدت بالا گرفتار شود-از این رو تعریف مجدد استانداردهای حریم خصوصی برای منسوجات عملکردی.
این ماده نوآورانه متولد شده از تلفیقی از نخ پلی استر و فناوری محافظت از نور نانو ، نانوذرات سرامیکی عکس-جذب کننده را از طریق ذوب مخلوط در ماتریس فیبر جاسازی می کند و "شبکه محافظت از نور همه آب و هوا" ایجاد می کند. با غلبه بر محدودیت های فله و نفوذپذیری پارچه های روکش دار سنتی ، نخ را در حالی که وزن 300 گرم در متر مربع دارد ، 85 ٪ راندمان محافظت می کند. این که آیا اتاق های تاریک و مهندسی سینما یا سیستم های سایه بان معماری با انرژی کارآمد ، مدیریت نور را مجدداً تصور می کند-با دقت تکنولوژیکی و تطبیق پذیری نساجی برای حل چالش های سایه دار پیچیده در سطح مولکولی.
کاربرد محصول
